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PTC LT12002H温等静压机是一种专门针对多层陶瓷产品的等静压成型工艺设计的层压设备。它在电子陶瓷、半导体陶瓷、新能源陶瓷等关键领域中广泛应用，凭借其性能及可靠度和行业内的广泛采用，已成为市场上备受青睐的层压系统之一。
PTC LT12002H温等静压机是一种专门针对多层陶瓷产品的等静压成型工艺设计的层压设备。它在电子陶瓷、半导体陶瓷、新能源陶瓷等关键领域中广泛应用，凭借其性能及可靠度和行业内的广泛采用，已成为市场上备受青睐的层压系统之一。
LT12002H等静压机通过运用水作为压力传递介质，在封闭的高压容器内部对陶瓷产品实施各个方位、等量的压力作用。遵循流体力学原理，这种压力以恒定且均匀的方式向各个方向传递，确保陶瓷产品形成具有预期致密度的坯体。
应用领域：
LTCC低温共烧陶瓷，HTCC高温共烧陶瓷，MLCC多层陶瓷电容器，PTC/NTC压敏热敏电阻，MLCI片式叠层电感，PZT多层压电陶瓷，SOFC/SOEC电池片，静电吸盘，探针卡，陶瓷基板，吸波滤器材料，铁氧体材料，发热片等多层陶瓷器件行业。
特点：
压力精准，温度均匀
分段升降压
结构小巧
人性化设计，简洁易用
30+年技术底蕴。
基本参数：
型号 | LT12002H |
压强(max.) | 12000psi(83MPa) |
压强精度 | ±50psi |
温度(max.) | 85℃（可选配至93℃） |
温度精度 | ±2℃ |
腔体尺寸(W*D*H) | 117*295*420mm |
适用巴块尺寸 | ≤10" |
外形尺寸 (W*D*H) | 1045*1055*1535mm |
电源 | 380VAC, 3相, 20A |
气源 | 100PSI(0.7Mpa) |
水源 | 纯净水，去离子水 |
温等静压机选型参考表：
型号 | LT12002H | ||||
压强 | 8000psi | 8000psi | 12000psi | 8000psi | 8000psi |
(55MPa) | (55MPa) | (83MPa) | (55MPa) | (55MPa) | |
适用巴块尺寸 | ≤6" | 6"~10" | 6"~10" | 6"~12" | ≤20" |
应用领域 | HTCC, LTCC, SOFC, PIEZO | 静电吸盘， | |||
